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广州美术培训学习:常见的素描几何形体画法图解(正方体篇)

2021-03-04 15:20:51

  在素描教学和研究中,重视基础素描,学习正确的观察方法,加强整体观念、立体观念尤为重要。作为几何形体初学者绘画入门内容,了解一些素描石膏几何形体的基本原理和方法是非常必要的,包括在广州美术培训学习中的小伙伴。本文将通过图解的方式为大家讲述相关知识要点,下面我们一起来看看素描几何体中关于正方体的画法。

 

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    正方体的绘制首先要对实际物体进行观察测量,对光源的位置进行判定,在绘制过程中物体与背景要拉开距离,对物体的塑造要细腻,体面的转折要有明暗的变化,塑造出正方体的体积感。

 

    熟悉各个面的排线,用排线塑造出面的明暗过渡变化,亮面、灰面和暗面的明暗对比要强烈,棱边的处理要加强面的明暗对比关系,处理正方体的投影时,贴近物体的位置的投影要实一些,远端的投影要虚一些,投影的整体要有明暗的过渡。广州美术培训学习中,画室老师会先让同学们学习、掌握排线,然后再深入学习素描石膏几何体。

 

    步骤一:画出准确的正方体透视轮廓结构,注意近大远小的透视关系。正方体为成角透视,根据光源的位置画出正方体的暗面和投影区域的排线,暗面的排线要沿着一条棱边向后方过渡绘制,投影的处理要从离正方体近的一侧向远端由深向浅过渡绘制。

 

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    步骤二:正方体灰面的处理明度要略高于暗面,排线也要有明暗的过渡变化。正方体形成了三个面,可以将物体的体积感简单地体现出来。正方体暗面要注意反光的表现,反光是由于背景光反射所形成的,反光的明度要暗于正方体灰部。

 

    步骤三: 背景的处理要与物体拉开距离,正方体暗面的背景要略微亮一些,靠近光源位置一侧的背景较暗,背景的左右要有明暗的过渡变化,平面与立面的背景要有过渡。

 

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    步骤四:背景的处理要与物体拉开距离,正方体暗面的背景要略微亮一些,靠近光源位置一侧的背景较暗,背景的左右要有明暗的过渡变化,平面与立面的背景要有过渡。

 

    步骤五:亮面的调子要淡一些,亮、灰、暗面的对比越强烈,正方体的体积感就越强,相比亮面与灰面、灰面与暗面,暗面与亮面之间转折的棱边明暗对比最强。投影的处理要掌握明暗的过渡变化,淡化远端的投影。

 

    无论你在哪家广州美术培训学习班中,勤奋练习才是通往成功的捷径!

 

    希望本文对美术画室培训中的同学们有所帮助!

 

    (资料来源网络,由一尚美术教育收集分享)

 

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